挑戰ASML!佳能推低成本半導體製造設備 價格號稱少一個零

挑戰ASML!佳能推低成本半導體製造設備 價格號稱少一個零

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日本相機暨印表機大廠佳能( Canon) 準備搶攻半導體制造設備市場,將推出不用光線刻蝕,改用壓印的新機器,價格號稱比荷蘭業者艾司摩爾(ASML)少了一個零。圖/路透

日本相機暨印表機大廠佳能(Canon)準備搶攻先進半導體制造設備市場,將推出不用光線刻蝕,改用壓印的新款低成本晶片製造機械,價格號稱比荷蘭業者艾司摩爾(ASML)的設備少了一個零,最快將在今年出貨。

英國金融時報(FT)報導,佳能去年10月中發表的奈米壓印微影(nanoimprint lithography)技術,不用光線刻蝕,而是將晶片設計戳印在矽晶圓上。佳能說,這種科技已經發展超過15年,但是直到現在纔有商業可行性。

佳能表示,相較於ASML稱霸市場的極紫外光(EUV)微影技術,新制程便宜了「一個位數」,用電量最多減少九成。

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佳能負責開發新微影設備的武石洋明說:「我們希望今年或明年開始出貨…想在市場正熱的時候推出」,「這是非常獨特的技術,能以簡單且低成本的方式製造尖端晶片。」

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極度精密的EUV設備,是臺積電、三星、英特爾等生產最新一代晶片的必需品,ASML是唯一能生產這種機器的業者。但ASML設備也是半導體制程中最昂貴的環節,每臺要價超過1.5億美元,交貨的前置時間又長,給予佳能推銷自家技術的空間。

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武石洋明說:「我們的目標並非奪取EUV市佔…我們相信奈米壓印技術能與EUV及其他技術並存,而且貢獻產業的整體成長。」

儘管佳能先鎖定3D NAND快閃記憶體晶片,而非更復雜的微處理器,樂觀期盼能開創出利基市場,但分析師對該公司能帶來的影響,抱持懷疑。研究公司Radio Free Mobile創辦人溫莎說:「這種技術毫不新奇…奈米壓印若是更優異的技術,我想市場現在早已大量使用。」

佳能的最大挑戰之一,是要提高進一步微縮製程的成功率。該公司從5奈米起跳,目標要達到2奈米。武石洋明不願透露奈米壓印設備的潛在良率,分析師則表示,良率必須接近90%,才能與EUV競爭。

不過,若佳能成功,日本製造商將能贏回先前讓給臺灣與南韓等國的部分優勢。武石洋明說:「在瑕疵風險部分,我想我們的科技已大致解決這個問題。」「但因爲現有的晶片製程都是爲EUV優化,顯然在引進新技術時會有各種難關。」

因此佳能新機器的首批交貨將有試用期,因必須說服客戶值得把這些新機器整合到現有晶圓廠。佳能說,業者可能不必大幅調整晶片設計圖案,但可能依些額外的設備,例如清洗機械與生產光罩的機器。